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追求靶材性能極致 為制造業(yè)4.0助力

2020-07-30 15:27:47

濺射鍍膜的基本原理是讓具有足夠高能量的粒子轟擊靶材表面,使靶材中的原子被“濺射”出來,沉積到基體上成膜。通常是利用氣體放電產(chǎn)生氣體電離,其正離子在電場作用下高速轟擊作為陰極的靶體,擊出陰極靶體原子或分子,飛向被鍍基體表面沉積成薄膜。靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān)。

在半導(dǎo)體工業(yè)中,鎢(W)薄膜主要被用作構(gòu)成位于W-Al基底中的電子部件(例如,柵電極或接線材料) 的材料。


近年來,微電子及半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)得到了迅速的發(fā)展,由于這些電子零件需要高集成度,高可靠性,高功能性,高速處理,為了滿足這些需求,降低薄膜材料的電阻至關(guān)重要。W用于柵極和互連金屬化中的金屬間隔離有著顯著的作用,鎢電阻低,并且耐熱性也極好,鎢作為構(gòu)成電極和導(dǎo)線的材料,引起了半導(dǎo)體工程師的廣泛注意

廈門虹鷺生產(chǎn)的高純鎢靶材應(yīng)用于物理氣相沉積(PVD)制備,濺射過程中產(chǎn)生的顆粒數(shù)少、得到的薄膜均一性高并且具有優(yōu)良電性能,能夠較完美地滿足半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)材料的極致追求。


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